Matt Hettermann von EUV Tech, einem der neuesten Mitglieder der eBeam-Initiative, gibt einen Einblick in die EUV-Maskenmetrologielösungen, einschließlich HVM-Reflektometrie, Pellicle-Transmissionsmetrologie, aktinische Bildüberprüfung sowie Beschichtungs- und Filmschichtmetrologie.