Chemisch-mechanische Planarisation, CMP-Prozessgrundlagen: Kap. 5 & 6 - CMP-Herausforderungen & Zusammenfassung
Seit seiner Gründung hat Cabot Microelectronics erhebliche Ressourcen investiert, um eine starke Präsenz im CMP - Chemisch-mechanische Planarisation-Markt aufzubauen. Unsere Bemühungen haben eine solide Grundlage für Wachstum geschaffen, die auf drei Säulen basiert: hervorragende Technologie, erstklassiger Kundenservice und eine umfassende globale Infrastruktur. Die Video-Serie Professor Polish - CMP-Prozessgrundlagen vermittelt die Grundlagen des CMP-Prozesses, einschließlich der Poliermechanismen, der Partikel-Dispersion und der wichtigen Rolle, die sie in der Halbleiterfertigung spielen.